Detailansicht: Top : Physik : Strukturelle Untersuchungen an dünnen Siliziumnitridfilmen auf Si(111)-Substraten mit Synchrotronstrahlungsmethoden und STM

Art der Arbeit: Diplomarbeit
Arbeit erwerbbar: keine Angabe
Verfasser: Oliver Brunke (Email: brunke@uni-bremen.de)
Abgabedatum: 11.06.2001
Uni / FH: Universität Bremen

Beschreibung

Die Arbeit beschäftigt sich mit der Untersuchung von ultradünnen (5-30 \AA)Siliziumnitridfilmen die mittels RF-Plasmaquelle auf Si(111)-Substraten gewachsen werden. Ziel ist ein genaueres Verständis der atomaren Interfacestruktur und eine Verbesserung des Wachstums hin zu epitaktischen Filmen. Die wichtigsten Untersuchungsmethoden sind XRD, XSW, XRR (am Synchrotron in HH) und STM(in unserem Labor)

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